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一种粉末镀膜设备

  • 申请号:CN201020645156.2
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司
  • 公开(公开)号:CN201883142U
  • 公开(公开)日:2011.06.29
  • 法律状态:
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种粉末镀膜设备
申请号 CN201020645156.2 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN201883142U 公开(授权)日 2011.06.29
申请(专利权)人 中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司 发明(设计)人 冯彬;张宁;刘大为;王维;李伟;孟凡利
主分类号 C23C14/35(2006.01)I IPC主分类号 C23C14/35(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;B22F1/02(2006.01)I
专利有效期 一种粉末镀膜设备 至一种粉末镀膜设备 法律状态
说明书摘要 一种粉末镀膜设备,属于镀膜设备技术领域。包括真空室、热丝电极、磁控靶、多工位转靶、离子枪及反弹振动装置,所述真空室内反弹振动装置的样品盘上方设置热丝电极、磁控靶、多工位转靶及离子枪,离子枪的离子束通过多工位转靶的靶面反射至样品盘,磁控靶的中心线交于样品盘。本实用新型拉开粉末相邻颗粒间距离,使之减少颗粒之间的摩擦,避免被镀层被磨掉,使得每个粉末颗粒每个面都能产生朝向靶面或热丝电极的机会,从而实现在粉末颗粒上各个面上镀膜。

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