专利详情

专利名称	一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法
申请号	CN200610003067.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101017214	公开（授权）日	2007.08.15
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	谢常青;叶甜春
主分类号	G02B5/18(2006.01)	IPC主分类号	G02B5/18(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01)
专利有效期	一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法至一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法	法律状态	授权
说明书摘要	一种X射线衍射光学元件—高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法，步骤如下：1.在自支撑X射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层；2.在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶，得到光栅图形；3.所得片子放在电镀液中电镀出X射线掩模吸收体金图形；4.所得片子去除电子束光刻胶；5.再去除电子束光刻胶图形下的薄铬薄金层；6.玻璃上旋涂聚酰亚胺，并固化；7.在聚酰亚胺表面上淀积金；8.在金表面旋涂X射线光刻胶，完成的高分辨率光栅X射线掩模进行X射线光刻并显影；9.对X射线光刻后的片子进行金去除；10.去除聚酰亚胺；11.去除X射线光刻胶；12.背面腐蚀透玻璃；完成高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作。