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一种用于磁共振成像的窄通道冷却超导磁体结构

  • 申请号:CN201120027046.4
  • 专利类型:实用新型
  • 申请(专利权)人:中国科学院高能物理研究所;潍坊新力超导磁电科技有限公司
  • 公开(公开)号:CN202013788U
  • 公开(公开)日:2011.10.19
  • 法律状态:
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专利详情

专利名称 一种用于磁共振成像的窄通道冷却超导磁体结构
申请号 CN201120027046.4 专利类型 实用新型
公开(公告)号 CN202013788U 公开(授权)日 2011.10.19
申请(专利权)人 中国科学院高能物理研究所;潍坊新力超导磁电科技有限公司 发明(设计)人 张国庆;朱自安;赵玲;杜晓纪;王美芬;马文彬;姚卫超;侯治龙;宁飞鹏;王兆连;李培勇;胡金刚
主分类号 H01F6/04(2006.01)I IPC主分类号 H01F6/04(2006.01)I;H01F6/06(2006.01)I;G01R33/3815(2006.01)I
专利有效期 一种用于磁共振成像的窄通道冷却超导磁体结构 至一种用于磁共振成像的窄通道冷却超导磁体结构 法律状态
说明书摘要 本实用新型公开了一种用于磁共振成像的窄通道冷却超导磁体结构,包括线圈骨架,线圈骨架的两端设有骨架端板,线圈骨架上设有由超导带材绕制而成的多层超导线圈,超导线圈构成超导磁体本体,超导磁体本体内设有液氦冷却通道,骨架端板的内侧面上设有导液凹槽,液氦冷却通道与导液凹槽相连通。通过液氦冷却通道在超导磁体的绕组中引入一定的液氦,使液氦可以与超导带材部分表面直接接触,大大增加液氦对于超导磁体内瞬态热源的冷却能力,能够及时地吸收由导线运动及其他原因所释放的能量,改善超导磁体内部的导冷条件,提高磁共振成像超导磁体的稳定性和克服“锻炼”效应。

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