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生长纳米级气泡的方法及其观察并控制装置与方法

  • 申请号:CN200510111757.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海应用物理研究所
  • 公开(公开)号:CN1987414
  • 公开(公开)日:2007.06.27
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 生长纳米级气泡的方法及其观察并控制装置与方法
申请号 CN200510111757.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1987414 公开(授权)日 2007.06.27
申请(专利权)人 中国科学院上海应用物理研究所 发明(设计)人 张立娟;胡钧;方海平;樊春海;张益;沈广霞
主分类号 G01N13/00(2006.01) IPC主分类号 G01N13/00(2006.01);G01N1/28(2006.01);C25B1/00(2006.01)
专利有效期 生长纳米级气泡的方法及其观察并控制装置与方法 至生长纳米级气泡的方法及其观察并控制装置与方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明公开了一种生长纳米级气泡的方法,其采用电化学方法,以疏水的、表面粗糙度不超过10纳米的导电材料为工作电极,同时作为生长纳米气泡的基底,并控制电压至少为0.7V的正压或负压,反应时间为1秒~2.5小时。本发明也公开了一种观测并控制上述生长纳米级气泡的装置和方法。本发明方法可以产生某一单体成分的纳米级气泡,具有很好重现性,操作简便;而且,通过改变电压和反应时间可以控制纳米气泡的大小和数量。

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