
生长纳米级气泡的方法及其观察并控制装置与方法
- 申请号:CN200510111757.9
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海应用物理研究所
- 公开(公开)号:CN1987414
- 公开(公开)日:2007.06.27
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 生长纳米级气泡的方法及其观察并控制装置与方法 | ||
申请号 | CN200510111757.9 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN1987414 | 公开(授权)日 | 2007.06.27 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 发明(设计)人 | 张立娟;胡钧;方海平;樊春海;张益;沈广霞 |
主分类号 | G01N13/00(2006.01) | IPC主分类号 | G01N13/00(2006.01);G01N1/28(2006.01);C25B1/00(2006.01) |
专利有效期 | 生长纳米级气泡的方法及其观察并控制装置与方法 至生长纳米级气泡的方法及其观察并控制装置与方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种生长纳米级气泡的方法,其采用电化学方法,以疏水的、表面粗糙度不超过10纳米的导电材料为工作电极,同时作为生长纳米气泡的基底,并控制电压至少为0.7V的正压或负压,反应时间为1秒~2.5小时。本发明也公开了一种观测并控制上述生长纳米级气泡的装置和方法。本发明方法可以产生某一单体成分的纳米级气泡,具有很好重现性,操作简便;而且,通过改变电压和反应时间可以控制纳米气泡的大小和数量。 |
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