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一种平面集成的三维磁场传感器及其制备方法和用途

  • 申请号:CN200510126428.1
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
  • 公开(公开)号:CN1979210
  • 公开(公开)日:2007.06.13
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种平面集成的三维磁场传感器及其制备方法和用途
申请号 CN200510126428.1 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1979210 公开(授权)日 2007.06.13
申请(专利权)人 中国科学院物理研究所 发明(设计)人 覃启航;韩秀峰;王磊;马明;魏红祥;詹文山
主分类号 G01R33/09(2006.01) IPC主分类号 G01R33/09(2006.01);H01L43/10(2006.01)
专利有效期 一种平面集成的三维磁场传感器及其制备方法和用途 至一种平面集成的三维磁场传感器及其制备方法和用途 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明涉及一种平面集成的三维磁场传感器,其包括:一个片基和其上的缓冲层,以及三个位于缓冲层上不同区域的、独立的、磁性多层膜构成的磁性传感器单元,在没有外加磁场时三个磁性传感器单元的自由层有同一个易轴方向,钉扎层的三个易轴方向相互垂直,分别具有垂直于片基平面磁场感应方向和平行于片基平面、且相互垂直的二维磁场感应方向。该平面集成的三维磁场传感器可用于检测三维磁场。由于本发明将测量三维方向的磁场传感器集中在一块芯片上,减小了传感器体积,降低了成本,大大提高了三维磁性传感器的稳定性,尤其是可以与大规模集成电路工艺相兼容,在一些特定条件下有着很多不可替代的优点。

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