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一种氧化锌基陶瓷溅射靶材的中温制备方法

  • 申请号:CN200910098518.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
  • 公开(公开)号:CN101885609A
  • 公开(公开)日:2010.11.17
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种氧化锌基陶瓷溅射靶材的中温制备方法
申请号 CN200910098518.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101885609A 公开(授权)日 2010.11.17
申请(专利权)人 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 发明(设计)人 杨晔;张宇龙;赵俊华;张贤鹏;宋伟杰;谭瑞琴;崔平
主分类号 C04B35/622(2006.01)I IPC主分类号 C04B35/622(2006.01)I;C04B35/624(2006.01)I;C04B35/453(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I
专利有效期 一种氧化锌基陶瓷溅射靶材的中温制备方法 至一种氧化锌基陶瓷溅射靶材的中温制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种氧化锌基陶瓷溅射靶材的中温制备方法,其特征在于步骤依次为:(1)采用氧化锌基纳米粉体,经过30~150MPa的单轴模压成型,保压时间为30~300s;(2)将步骤(1)中的样品经150~300MPa的冷等静压,保压时间为60~600s;(3)将步骤(2)中的样品放入箱式炉中温烧结,烧结温度为800~1300℃,升温速率为0.5~10℃/min,烧结时间为4~40h,降温速率为1~10℃/min;(4)将步骤(3)中的样品经过切割、打磨、抛光,成规定尺寸;所述的氧化锌基纳米粉体是采用掺杂了硼、铝、镓、铟或者锡元素的掺杂氧化锌纳米粉体,掺杂量为0~18a?t%。靶材制备设备简单,成本低,适合于工业化生产。

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