专利详情

专利名称	噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法
申请号	CN200510061231.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1951941	公开（授权）日	2007.04.25
申请（专利权）人	浙江华海药业股份有限公司;中国科学院成都有机化学有限公司	发明（设计）人	王立新;唐毅;陈一;田芳
主分类号	C07D495/04(2006.01)	IPC主分类号	C07D495/04(2006.01)
专利有效期	噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法至噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法，包括如下步骤：光学异构体在10－50％的碱水溶液中、相转移催化剂作用下于1－11atm压力条件下、 80－200℃碱解得噻吩并四氢吡啶乙酸盐消旋体。本发明通过消旋体拆分，非目标手性化合物或者中间体的消旋和转化利用，解决了非目标手性“废弃物”的非环保排(存)放问题，且操作方便，工艺简单，可用于工业及商业化生产并具有生产成本和环保优势。