专利详情

专利名称	确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法
申请号	CN200610113712.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1936646	公开（授权）日	2007.03.28
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	陈伟;姚汉民;伍凡;万勇建;范斌;朋汉林
主分类号	G02B27/00(2006.01)	IPC主分类号	G02B27/00(2006.01)
专利有效期	确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法至确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	确定工艺参数与工件表面频谱分布特性的方法，涉及一种从空间频谱角度分析光学元件制造误差，尤其是表面面形中高频误差与工艺参数的定性定量关系，利用信息处理技术对测试仪器所获取的光学元件的制造误差数据进行处理，采取一维功率谱密度比值作为评价指标确定工艺参数同频谱分布特性的关系。本发明通过对工艺参数与工件表面频谱分布特性的定性定量研究，提供了一条光学元件面形加工中工艺参数确定的新方法，对高质量光学元件的加工具有重要的应用价值。