
一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法
- 申请号:CN201210247712.4
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
- 公开(公开)号:CN102728344A
- 公开(公开)日:2012.10.17
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法 | ||
申请号 | CN201210247712.4 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102728344A | 公开(授权)日 | 2012.10.17 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 发明(设计)人 | 王文中;孙松美 |
主分类号 | B01J23/31(2006.01)I | IPC主分类号 | B01J23/31(2006.01)I;C01G41/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法 至一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种三维有序大孔Bi2WO6光催化材料的制备方法,所述方法为模板法,包括:透明前驱体溶液的制备;块状三维有序SiO2光子晶体模板的制备;将获得的块状三维有序SiO2光子晶体模板浸入透明前驱体溶液中,于50~70℃干燥成块状固体后在氨气氛中熏蒸;在400~500℃煅烧;用碱溶液浸泡等步骤。由本发明方法获得的三维有序大孔Bi2WO6光催化材料存在光子带隙,可以更有效地吸收230nm左右的紫外光,具有显著的光催化活性,可用于降解自然条件下难降解的苯类有机污染物,具有应用前景;且本发明所述制备方法无需特殊设备和苛刻条件,工艺简单,可控性强,容易实现规模化生产,具有实用性。 |
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