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掺杂超晶格结构的太阳能电池及其制备方法

  • 申请号:CN201210203837.7
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 公开(公开)号:CN102738266A
  • 公开(公开)日:2012.10.17
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 掺杂超晶格结构的太阳能电池及其制备方法
申请号 CN201210203837.7 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102738266A 公开(授权)日 2012.10.17
申请(专利权)人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明(设计)人 郑新和;李雪飞;张东炎;吴渊渊;陆书龙;杨辉
主分类号 H01L31/0352(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/077(2012.01)I;H01L31/18(2006.01)I
专利有效期 掺杂超晶格结构的太阳能电池及其制备方法 至掺杂超晶格结构的太阳能电池及其制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明提供一种掺杂超晶格结构的太阳能电池,包括第一GaAs层和有源区,所述有源区置于第一GaAs层的裸露表面上,所述有源区包括第一、第二GaNAs/InGaAs超晶格结构,所述第二GaNAs/InGaAs超晶格结构设置于第一GaNAs/InGaAs超晶格结构表面,所述第一、第二GaNAs/InGaAs超晶格结构中的InGaAs层厚度不同,且第一GaNAs/InGaAs超晶格结构中InGaAs层和GaNAs层均掺杂同种导电类型的杂质。本发明还提供一种上述掺杂超晶格结构的太阳能电池的制备方法,在第一GaAs层的裸露表面上依次生长第一、第二GaNAs/InGaAs超晶格结构以形成有源区,所述第一、第二GaNAs/InGaAs超晶格结构中的InGaAs层厚度不同,且第二GaNAs/InGaAs超晶格结构中InGaAs层和GaNAs层均掺杂同种导电类型的杂质。

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