专利详情

专利名称	加快镀膜机真空室达到高空度的方法
申请号	CN200610030790.3	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1912177	公开（授权）日	2007.02.14
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	凌波;贺洪波;易葵;范正修;袁磊;邵建达
主分类号	C23C14/54(2006.01)	IPC主分类号	C23C14/54(2006.01)
专利有效期	加快镀膜机真空室达到高空度的方法至加快镀膜机真空室达到高空度的方法	法律状态	授权
说明书摘要	一种加快镀膜机真空室达到高空度的方法，其特征在于是抽真空在达到高真空且抽气速率呈明显下降趋势时，打开充气阀，调节流量计逐渐充入纯度为99.99％及其以上的高纯氮气，最后将系统内总压强控制在1×10^－ 2Pa，持续充氮气15～30分钟，之后关闭充气阀，继续进行抽气，直到所需的本底真空。本方法可以用来提高真空泵机组的排气能力，加快镀膜室内残余气体的排出，有效地提高了镀膜室的真空度并缩短了系统达到所需高真空度的时间，进而能改善所镀制薄膜的质量。本发明具有成本低、省时、操作简便和适用范围广的特点。