专利详情

专利名称	一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法
申请号	CN200910091395.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101996853A	公开（授权）日	2011.03.30
申请（专利权）人	中国科学院物理研究所	发明（设计）人	张广宇;时东霞;杨蓉;王毅;张连昌
主分类号	H01L21/00(2006.01)I	IPC主分类号	H01L21/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I
专利有效期	一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法至一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种对石墨或石墨烯进行各向异性刻蚀的方法，以利用这种方法来实现石墨烯晶向定位、石墨烯的加工剪裁及图案化，该方法包括：采用含氢等离子体对石墨或石墨烯的表面进行各向异性刻蚀，在石墨或石墨烯表面形成多个规则的六角形空洞，该多个六角形空洞均具有相同的取向，该取向与石墨烯的晶向是匹配的，且刻蚀边缘具有原子级平整，边缘结构均为zigzag构型。利用本发明，克服了现有对石墨或石墨烯进行刻蚀方法存在的局限性，实现了尺寸可控、并具有原子级平整边缘的石墨烯的加工剪裁及图案化。