专利详情

专利名称	互补结构微图案化制作倒梯形结构的方法
申请号	CN200610016995.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1877453	公开（授权）日	2006.12.13
申请（专利权）人	中国科学院长春应用化学研究所	发明（设计）人	韩艳春;邢汝博;于新红
主分类号	G03F7/20(2006.01)	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01);H05B33/00(2006.01);H01L21/00(2006.01)
专利有效期	互补结构微图案化制作倒梯形结构的方法至互补结构微图案化制作倒梯形结构的方法	法律状态	授权
说明书摘要	本发明属于互补结构微图案化加工方法。首先利用毛细微模塑在基底表面制作具有正梯形横截面的微结构。以该结构作为支撑，在其表面涂敷另外一层薄膜。然后选用能溶解毛细微模塑制作的微结构，但是不溶解其表面薄膜的溶剂将微结构溶解，并带动其表面的薄膜一起剥落，从而在基底表面留下具有倒梯形横截面的微结构。该结构可以用于有机平板显示中有机半导体层及电极层的分离。与已有技术相比，本发明具有设备和工艺简单，原理上可以制作多种材料的倒梯形结构的特点。