专利详情

专利名称	混合线条的制造方法
申请号	CN201110261526.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102983066A	公开（授权）日	2013.03.20
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	唐波;闫江
主分类号	H01L21/027(2006.01)I	IPC主分类号	H01L21/027(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期	混合线条的制造方法至混合线条的制造方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种混合线条的制造方法，包括以下步骤：A、在底层上依次形成材料层和第一硬掩模层；B、对第一硬掩模层光刻/刻蚀形成第一硬掩模图形；C、在材料层和第一硬掩模图形上形成第二硬掩模层；D、对第二硬掩模层光刻/刻蚀形成第二硬掩模图形；E、以第一和第二硬掩模图形为掩模，刻蚀材料层，形成第一线条和第二线条。依照本发明的混合线条制造方法，将同一层次图形按线条大小进行拆分，大线条用普通光学曝光，小线条用电子束曝光，旨在不影响图形质量的前提下大幅缩减曝光时间。同时采用2次硬掩膜方法有效的解决了I线光刻胶和电子束光刻胶相互影响的问题。