专利详情

专利名称	小尺寸鳍形结构的制造方法
申请号	CN201110261527.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102983073A	公开（授权）日	2013.03.20
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	杨涛;赵超;李俊峰;卢一泓
主分类号	H01L21/308(2006.01)I	IPC主分类号	H01L21/308(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I
专利有效期	小尺寸鳍形结构的制造方法至小尺寸鳍形结构的制造方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明提供了一种小尺寸鳍形结构的制造方法，包括以下步骤：在衬底上依次形成第一掩模层和第二掩模层；刻蚀第一掩模层和第二掩模层形成硬掩模图形，其中第二掩模层图形比第一掩模层图形宽；去除第二掩模层图形；以第一掩模层图形为掩模，干法刻蚀衬底，形成鳍形结构。依照本发明的小尺寸鳍形结构制造方法，先制备较大尺寸的硬掩模，而后通过湿法腐蚀制备出宽度可控的、小尺寸硬掩模，最终利用在体硅晶圆的刻蚀上，从而得到所需的小尺寸鳍形结构，提高了器件的电学性能以及集成度，并简化了工艺降低了成本。