专利详情

专利名称	气体喷印装置及喷印方法
申请号	CN201210496208.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102963124A	公开（授权）日	2013.03.13
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	潘革波;肖燕;刘永强;王凤霞;吴浩迪
主分类号	B41J2/00(2006.01)I	IPC主分类号	B41J2/00(2006.01)I;B41J3/00(2006.01)I;B41M5/00(2006.01)I
专利有效期	气体喷印装置及喷印方法至气体喷印装置及喷印方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种气体喷印装置，包括气化室，所述气化室具有一收容空间，所述气化室包括加热装置和用于放置样品的物料室；与气化室相连的进气管，所述进气管用于通入载气；与气化室相连的出气管，所述出气管用于输送气雾；出气管的末端设置有喷射装置，所述喷射装置包括喷头和载气管；以及，设置于喷射装置前方的接收装置，用于接收来自喷射装置的气雾。本发明具有操作简单，定位准确，应用范围广的优点，无需将固体溶解配成溶液，既可以克服打印、电纺丝等纳米制造技术中溶液配置带来的困扰，同时又能克服传统PVD，CVD和真空蒸镀过程中存在的无法准确定位在微区范围内制造纳米材料的缺点。