专利详情

专利名称	微型集成窄带滤光片阵列及其制备方法
申请号	CN200610027388.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1862296	公开（授权）日	2006.11.15
申请（专利权）人	上海欧菲尔光电技术有限公司;中国科学院上海技术物理研究所;苏州市光电元件厂	发明（设计）人	周东平;沈家麟
主分类号	G02B5/20(2006.01)	IPC主分类号	G02B5/20(2006.01);G03F7/00(2006.01)
专利有效期	微型集成窄带滤光片阵列及其制备方法至微型集成窄带滤光片阵列及其制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种微型集成窄带滤光片阵列及其制备方法，该滤光片阵列包括：基片，在基片的一面置有与基片牢固结合的多个通道微型窄带滤光膜层，在基片的另一面镀制有公共截次峰膜层，其特征在于：各通道微型窄带滤光膜层之间有一间隔，间隔内置有防止光串扰的不透光的金属层，该金属层从间隔内延伸到滤光膜层的侧面，即各个通道滤光膜层侧面都有金属层包覆，彻底解决了各个通道之间的光串。该制备方法的特征是在滤光片的制备过程中，增设测量镀膜窗口，与对应的通道同时镀制，解决了制备过程中对单通道膜系进行测量的难度；采用金属掩模，有效地解决了光刻胶不能耐高温的问题，及其机械掩模所带来的变形和边缘效应，解决了通道图案精细化的问题。