专利详情

专利名称	光学滤光片薄膜厚度的监控方法
申请号	CN200610027389.4	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1862297	公开（授权）日	2006.11.15
申请（专利权）人	上海欧菲尔光电技术有限公司;中国科学院上海技术物理研究所	发明（设计）人	周东平
主分类号	G02B5/20(2006.01)	IPC主分类号	G02B5/20(2006.01);G06F17/50(2006.01)
专利有效期	光学滤光片薄膜厚度的监控方法至光学滤光片薄膜厚度的监控方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种光学滤光片薄膜厚度的监控方法，该方法是首先计算出每块监控片都以中心波长λ0为监控波长的光谱曲线；再计算出偏离中心波长为监控波长的系列光谱曲线；然后用常规的极值间接监控方法在基片上镀光学薄膜；对镀制好的滤光片进行光谱曲线测试；将测试的光谱曲线与模拟计算的光谱曲线进行对比，找出与计算光谱曲线中最相近的光谱曲线，调整监控波长重新制备新的滤光片，如此重复，直到滤光片的测试光谱曲线的波形和透过率或反射率指标达到设计要求的指标。本发明方法的最大优点是：提高了薄膜厚度控制精度。对窄带滤光片的制备特别有利。