专利详情

专利名称	集成电路用真空机组控制装置
申请号	CN201020215531.X	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN201845216U	公开（授权）日	2011.05.25
申请（专利权）人	中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司	发明（设计）人	张利国;郭丽娟;薛玉茹;王光玉;张振厚
主分类号	G05B19/418(2006.01)I	IPC主分类号	G05B19/418(2006.01)I
专利有效期	集成电路用真空机组控制装置至集成电路用真空机组控制装置	法律状态
说明书摘要	本实用新型涉及一种集成电路用真空机组控制装置，具有控制单元、人机界面、开关量输入输出接口、通讯模块以及模拟量输入接口，其中控制单元为控制核心，其数字量输入/输出端通过开关量输入/输出接口分别连接真空机组的工作状态信号和真空机组的控制信号，控制单元的模拟量输入端通过模拟量输入接口连接各类模拟量传感器；控制单元通过通讯模块与上位机或本地控制盒进行通讯连接。本实用新型配置RS-232、RS-485、PLC兼容继电器接口三种接口方式使，真空机组在IC生产线上任意位置的远程控制得以方便实现，对真空机组的各种参数实时监控，对故障发生可能的预见性大大提高，保证真空机组在健康的条件下正常运行。