专利详情

专利名称	分步重复光照纳米压印装置
申请号	CN200510126215.9	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1800975	公开（授权）日	2006.07.12
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	罗先刚;陈旭南;胡承刚
主分类号	G03F7/00(2006.01)	IPC主分类号	G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01)
专利有效期	分步重复光照纳米压印装置至分步重复光照纳米压印装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	分步重复光照纳米压印装置，由压力驱动系统、 Z向校准机构、双路CCD对准系统、倾斜校准机构、压模、基片、XYθ工件台、基片承片调平系统、大机台柜、控制系统、主机大底板和紫光均匀照明系统及机架等部分组成，能装载基片的承片调平系统安装于XYθ工件台上，机架上安装了压力驱动系统、Z向校准机构、倾斜校准机构和压模，双路CCD 对准系统和紫光均匀照明系统，它既不需要弹性印章或铸模，也不需要加高温、高压和降温，只需普通紫光照射，应用CCD 图像高精度对准，就能分步重复廉价制作出较复杂多层结构、较大有效工作面积和有利于推广应用的纳米图形结构。