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一种含氟聚酰亚胺红外低发射率薄膜材料及其制备方法

  • 申请号:CN201210060305.2
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
  • 公开(公开)号:CN102643544A
  • 公开(公开)日:2012.08.22
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种含氟聚酰亚胺红外低发射率薄膜材料及其制备方法
申请号 CN201210060305.2 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102643544A 公开(授权)日 2012.08.22
申请(专利权)人 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 发明(设计)人 陈景;薛立新;刘秉鑫;陈修碧
主分类号 C08L79/08(2006.01)I IPC主分类号 C08L79/08(2006.01)I;C08G73/10(2006.01)I;C07D209/48(2006.01)I
专利有效期 一种含氟聚酰亚胺红外低发射率薄膜材料及其制备方法 至一种含氟聚酰亚胺红外低发射率薄膜材料及其制备方法 法律状态 授权
说明书摘要 本发明公开了一种含氟聚酰亚胺红外低发射率薄膜材料及其制备方法。该薄膜材料是由R或S型1,1’-联萘-2,2’-二酚单体合成的二酐和二胺聚合,将联萘基团引入聚酰亚胺链中形成的含氟聚酰亚胺,具有良好的热稳定性、可调的链结构、良好的结晶性能及良好的耐溶剂性能,在8~14μm波段的平均红外发射率为0.30~0.70,因此能够作为一种性能良好的新型红外隐身新材料,在军用及民用技术领域具有较好的应用前景。

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