铁电薄膜移相器及检测与优化其反射特性的方法
- 申请号:CN200510105784.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
- 公开(公开)号:CN1780045
- 公开(公开)日:2006.05.31
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 铁电薄膜移相器及检测与优化其反射特性的方法 | ||
申请号 | CN200510105784.5 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN1780045 | 公开(授权)日 | 2006.05.31 |
申请(专利权)人 | 中国科学院物理研究所 | 发明(设计)人 | 张雪强;孟庆端;李翡;孙亮;黄建冬;张强;何豫生;李春光;何艾生;黎红 |
主分类号 | H01P1/18(2006.01) | IPC主分类号 | H01P1/18(2006.01);H03H11/16(2006.01);H03H17/08(2006.01);H03H9/66(2006.01) |
专利有效期 | 铁电薄膜移相器及检测与优化其反射特性的方法 至铁电薄膜移相器及检测与优化其反射特性的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种铁电薄膜移相器,为在共面线 上双周期性地装载铁电可调电容,共面线包括一条传输线和两 个位于传输线两侧的接地面,接地面和传输线共同附着在基片 的同一平面上,接地面与传输线之间是等宽度的缝;本发明还 公开了一种检测与优化铁电薄膜移相器反射特性的方法,将相 邻两段传输线的长度固定,改变装载可调电容的位置,通过计 算机仿真查看这种结构的反射及传输特性曲线,调整装载铁电 可调电容的位置,利用仿真得出的反射频率响应曲线,比较判 断出具有反射损耗比较小且工作带宽又比合适的最终结构。本 发明可以增加移相器的工作频率带宽,在较高的频率范围内, 有利于提高器件的品质因子。 |
交易流程
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