专利详情

专利名称	光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法
申请号	CN201110206616.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102253606A	公开（授权）日	2011.11.23
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	涂远莹;王向朝;步扬
主分类号	G03F7/20(2006.01)I	IPC主分类号	G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I
专利有效期	光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法至光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种光刻机投影物镜奇像差原位检测系统和检测方法，所述系统包括光源、照明系统、掩模台、包含检测标记的掩模、投影物镜、工件台、像传感装置、用于位置控制的干涉仪及数据处理装置。所述的检测方法通过设置不同的部分相干因子和数值孔径，标定相应的投影物镜奇像差灵敏度系数，然后利用像传感装置测量所述检测标记的空间像峰值光强差值，再利用标定的奇像差灵敏度系数计算所述投影物镜的奇像差。本发明的优点是提高了光刻机投影物镜奇像差的检测精度。