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一种具有低透射率、反射率和发射率的表面涂层

  • 申请号:CN200510029083.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
  • 公开(公开)号:CN1731222
  • 公开(公开)日:2006.02.08
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种具有低透射率、反射率和发射率的表面涂层
申请号 CN200510029083.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1731222 公开(授权)日 2006.02.08
申请(专利权)人 中国科学院上海技术物理研究所 发明(设计)人 陆卫;王少伟;陈效双;李宁;张波;李志锋;陈平平
主分类号 G02B1/10(2006.01) IPC主分类号 G02B1/10(2006.01);G02B5/20(2006.01)
专利有效期 一种具有低透射率、反射率和发射率的表面涂层 至一种具有低透射率、反射率和发射率的表面涂层 法律状态 授权
说明书摘要 本发明公开了一种同时具有低的表观透射率、反 射率和发射率的表面涂层,该涂层为含有谐振腔的高反多层膜 结构,其膜系为:(LH) mxL(HL) m,L为 低折射率膜层,H为高折射率膜层,每一膜层的厚度是随机涨 落的层厚,m为L与H的交替叠层次数,m≥3,xL为谐振腔 层,x为腔厚系数。在谐振腔层的中间有一层通过匀胶或喷涂 方法形成的稀疏金属纳米小球强吸收散射体。本发明的优点在 于:采用特殊的非均匀结构设计,使得该结构同时具有低的表 观透射率T、反射率R和发射率ε,是性能非常好的表面涂层, 可以满足抑制背景杂散光、而且自身发射率ε又低的表面涂层 的应用需求,而其制备方法与传统光学薄膜的制备方法完全兼 容,没有特殊要求。

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