
一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法
- 申请号:CN201010022997.2
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 公开(公开)号:CN101758457A
- 公开(公开)日:2010.06.30
- 法律状态:专利申请权、专利权的转移
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专利详情
专利名称 | 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法 | ||
申请号 | CN201010022997.2 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN101758457A | 公开(授权)日 | 2010.06.30 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明(设计)人 | 汪海波;刘卫丽;宋志棠 |
主分类号 | B24B57/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B57/00(2006.01)I;C02F9/02(2006.01)I;C02F1/44(2006.01)N;C02F1/42(2006.01)N |
专利有效期 | 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法 至一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法,包括下列步骤:将已使用过的抛光液经过滤膜过滤后收集滤液;将滤液过阳离子交换树脂后,收集流出液;将获得的流出液再过阴离子交换树脂,收集流出液;将获得的流出液作为原料用于配制新的化学机械抛光液,或者将获得的流出液浓缩后作为原料用于配制新的化学机械抛光液。本发明的方法磨料回收率高,环保且节省资源。 |
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