专利详情

专利名称	分子束外延生长GaN基发光晶体膜的方法
申请号	CN201010017135.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101748382A	公开（授权）日	2010.06.23
申请（专利权）人	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所	发明（设计）人	曾雄辉;徐科;王建峰;任国强;黄凯;包峰;张锦平
主分类号	C23C16/34(2006.01)I	IPC主分类号	C23C16/34(2006.01)I;C23C16/448(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I
专利有效期	分子束外延生长GaN基发光晶体膜的方法至分子束外延生长GaN基发光晶体膜的方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明揭示了一种分子束外延生长GaN基发光晶体膜的方法，在生长过程中掺杂稀土离子，取代部分Ga3+的晶格格位，其特征在于：在所述GaN晶体膜的原料配方中按比例掺入III族元素硼或铝，在生长过程中所述III族元素硼或铝以三价离子的形式进入GaN晶格，调配稀土离子和Ga3+之间的离子半径差；所述原料配方摩尔比例为：Ga∶Re∶A＝(1-x-y)∶x∶y，其中Re表示稀土金属，A表示III族元素硼或铝，0.1％≤x≤10.0％，0.1x≤y≤x。本发明由于采用了III族元素硼或铝和稀土金属按一定配比进行共掺，从而能在很大程度上改善因为Re3+和Ga3+之间较大的半径失配而造成的GaN晶体膜晶格畸变，从而提高GaN晶体膜的发光性能。