专利详情

专利名称	基于等离子波的纳米光刻光学装置
申请号	CN200510011971.7	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1710490	公开（授权）日	2005.12.21
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	罗先刚;陈旭南;李海颖;石建平;杜春雷
主分类号	G03F7/20	IPC主分类号	G03F7/20
专利有效期	基于等离子波的纳米光刻光学装置至基于等离子波的纳米光刻光学装置	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	等离子波的纳米光刻光学装置，由反射镜(1)和 (6)、均匀器(2)、滤光片(3)、HG灯光源(4)、椭球反射镜(5)和透镜组(7)组成的均匀照明系统照明金属掩模(8)，使紧接触放置硅片(10)上的抗蚀剂涂层(9)感光，HG灯光源(4)是使用可见光波段长波长光，在均匀照明位置放置的掩模是单层或多层金属掩模(8)，它与安放在其下方的抗蚀剂涂层(9)之间为无间隙紧接触，或被抽真空。本发明是用HG灯光源发出的G线436nm 长波长光，照明金属掩模，激发其金属掩模表面等离子体，形成等离子表面波传播，穿过金属掩模出射小发散角光用于光刻，不受衍射极限的限制，也不需要复杂昂贵的极短波长光源与激光，就可制作出纳米量级的任意高分辨率图形。