光刻机成像质量的检测方法
- 申请号:CN200510025281.7
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
- 公开(公开)号:CN1673871
- 公开(公开)日:2005.09.28
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 光刻机成像质量的检测方法 | ||
申请号 | CN200510025281.7 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN1673871 | 公开(授权)日 | 2005.09.28 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明(设计)人 | 施伟杰;王向朝;张冬青 |
主分类号 | G03F7/20 | IPC主分类号 | G03F7/20 |
专利有效期 | 光刻机成像质量的检测方法 至光刻机成像质量的检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种光刻机成像质量的检测方法,其特征在于该 方法包括准备工作、标记测量和数据处理等步骤,本发明该方 法在完成光刻机的焦面偏移、场曲、像散等轴向像质参数的原 位检测的同时,实现了对畸变、放大率、平移、旋转等垂轴像 质参数的精确测量,避免了垂轴像质参数的测量精度对轴向像 质校正程度的依赖关系,可获得光刻机像全面的质参数。 |
交易流程
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选取所需
专利 -
02
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可交易 - 03 签订合同
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