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光刻机成像质量的检测方法

  • 申请号:CN200510025281.7
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN1673871
  • 公开(公开)日:2005.09.28
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 光刻机成像质量的检测方法
申请号 CN200510025281.7 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN1673871 公开(授权)日 2005.09.28
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 发明(设计)人 施伟杰;王向朝;张冬青
主分类号 G03F7/20 IPC主分类号 G03F7/20
专利有效期 光刻机成像质量的检测方法 至光刻机成像质量的检测方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种光刻机成像质量的检测方法,其特征在于该 方法包括准备工作、标记测量和数据处理等步骤,本发明该方 法在完成光刻机的焦面偏移、场曲、像散等轴向像质参数的原 位检测的同时,实现了对畸变、放大率、平移、旋转等垂轴像 质参数的精确测量,避免了垂轴像质参数的测量精度对轴向像 质校正程度的依赖关系,可获得光刻机像全面的质参数。

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