一种复合金属钯膜或合金钯膜及其制备方法
- 申请号:CN200410021025.6
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院大连化学物理研究所
- 公开(公开)号:CN1640530
- 公开(公开)日:2005.07.20
- 法律状态:实质审查的生效
- 出售价格: 面议 立即咨询
专利详情
专利名称 | 一种复合金属钯膜或合金钯膜及其制备方法 | ||
申请号 | CN200410021025.6 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN1640530 | 公开(授权)日 | 2005.07.20 |
申请(专利权)人 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 发明(设计)人 | 徐恒泳;侯守福;李文钊;江魁;袁立祥 |
主分类号 | B01D71/02 | IPC主分类号 | B01D71/02;C23C18/42 |
专利有效期 | 一种复合金属钯膜或合金钯膜及其制备方法 至一种复合金属钯膜或合金钯膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种复合金属钯膜或合金钯膜,其特征在于金属 钯膜或合金钯膜几乎全部覆于多孔底膜的外表面,而很少沉积 在底膜的孔道中。其制备包括在多孔底膜外表面通过敏化活化 形成钯核、化学镀形成钯膜步骤,其特征在于:在敏化活化形 成钯核前,将修饰剂添入多孔底膜的孔道中,所述修饰剂为能 够通过后处理过程去除或部分去除的物质,或通过加热能够使 其体积明显收缩的物质;在化学镀形成钯膜或合金钯膜后,通 过后处理过程去除或部分去除所述修饰剂,或通过加热使修饰 剂的体积明显收缩。通过本发明的方法,所制备的复合钯膜或 合金钯膜的底膜孔道对于透氢能够提供几乎自由的通道,将具 有高的透氢量和透氢选择性。另外,本发明还具有工艺简单, 应用范围广和制造成本低的优点。 |
交易流程
-
01
选取所需
专利 -
02
确认专利
可交易 - 03 签订合同
- 04 上报材料
-
05
确认变更
成功 - 06 支付尾款
- 07 交付证书
过户资料
平台保障
1、源头对接,价格透明
2、平台验证,实名审核
3、合同监控,代办手续
4、专员跟进,交易保障
- 用户留言
暂时还没有用户留言