专利详情

专利名称	一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法
申请号	CN200410084794.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN1616948	公开（授权）日	2005.05.18
申请（专利权）人	中国科学院上海技术物理研究所	发明（设计）人	王少伟;陆卫;陈平平;李宁;张波;李志锋;陈效双
主分类号	G01N21/31	IPC主分类号	G01N21/31;G06F19/00
专利有效期	一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法至一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法	法律状态	授权
说明书摘要	本发明公开了一种用于光学材料微弱吸收测量的设备及方法，该发明是基于F－P干涉原理进行设计的，即在两片完全相同的窄带通高反膜系之间夹一真空层或空气层作为谐振腔，构成一个品质因子非常高的超窄带通滤光片，利用带通位置处的透过率对谐振腔的吸收特别敏感的特性，只要将待测样品放在谐振腔内，谐振腔内会有微弱吸收，就会引起透过率发生明显的变化，通过透过率的变化及利用商用的膜系设计与计算软件Filmstar绘制的峰值透过率差值(ΔT)随消光系数(κ)变化的标准曲线，就可以推算出待测光学材料的消光系数，进而得出其吸收系数。