专利详情

专利名称	控制气体氛围的飞秒激光微纳加工装置及其加工方法
申请号	CN201110188918.X	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102284790A	公开（授权）日	2011.12.21
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	崔乾楠;廖洋;程亚
主分类号	B23K26/12(2006.01)I	IPC主分类号	B23K26/12(2006.01)I
专利有效期	控制气体氛围的飞秒激光微纳加工装置及其加工方法至控制气体氛围的飞秒激光微纳加工装置及其加工方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种控制气体氛围的飞秒激光微纳加工装置及其加工方法，包括真空腔体、可编程位移平台、CCD、显微镜、电离规、电阻规、控制电源、微调阀门、真空泵、飞秒激光、可编程控制位移平台和CCD的计算机的结构。真空腔体、微调阀门和真空泵可进行抽真空与选择性引入气体操作，飞秒激光经显微物镜聚焦后通过光学窗口进入真空腔室与样品作用，真空腔室内的样品由计算机控制位移平台带动进行三维移动。本发明可实现真空条件或一定气体氛围下的飞秒激光微纳加工。