专利详情

专利名称	一种复合式回转对称去除函数的磁流变抛光工具
申请号	CN201110103775.8	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102225517A	公开（授权）日	2011.10.26
申请（专利权）人	中国科学院光电技术研究所	发明（设计）人	钟显云;范斌;万勇建;徐清兰
主分类号	B24B1/00(2006.01)I	IPC主分类号	B24B1/00(2006.01)I
专利有效期	一种复合式回转对称去除函数的磁流变抛光工具至一种复合式回转对称去除函数的磁流变抛光工具	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	复合式回转对称去除函数的磁流变抛光工具，属于超精密光学表面加工工具领域。它主要包括抛光轮自转装置、抛光轮公转装置、抛光液传输装置、抛光液回收装置以及磁场发生装置五部分。由于本发明采用的是场致流变辅助抛光，柔性抛光模对工件表面不会产生内部应力，因而可实现工件表面的超光滑，高精度制造。本发明的抛光轮具有同时公转、自转的复合式运动功能，抛光液可以循环利用，因此，可以获得稳定的回转对称型去除函数，具有结构精巧、集成度高、去除率快、加工能力强、去除函数稳定等优点，适用于光学平面、球面、非球面等光学元件的加工。