专利详情

专利名称	一种铜合金加工用微钻及其制备方法
申请号	CN201010039633.5	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101775587A	公开（授权）日	2010.07.14
申请（专利权）人	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	发明（设计）人	孙丽丽
主分类号	C23C14/35(2006.01)I	IPC主分类号	C23C14/35(2006.01)I;C23C14/04(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I
专利有效期	一种铜合金加工用微钻及其制备方法至一种铜合金加工用微钻及其制备方法	法律状态	著录事项变更
说明书摘要	本发明公开了一种铜合金加工用微钻及其制备方法，该微钻包括微钻基体和沉积在微钻基体表面的薄膜，所述的薄膜由三层膜层组成，在微钻基体表面由内而外依次为：过渡金属单质薄膜层、过渡金属的碳化物薄膜层和类金刚石碳膜层。所述制备方法包括：微钻基体尖端用金属丝屏蔽后，通过线性离子源或/和磁控溅射源，对微钻基体进行三层薄膜层的沉积。本发明通过对高速钢微钻尖端采用了金属丝屏蔽措施，然后进行了多层薄膜沉积，极大幅度地提高了铜合金加工用微钻的耐磨抗粘附性能、使用寿命和加工质量。