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一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正方法

  • 申请号:CN201110082471.8
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102147567A
  • 公开(公开)日:2011.08.10
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正方法
申请号 CN201110082471.8 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102147567A 公开(授权)日 2011.08.10
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 罗海燕;陈岚;尹明会;赵劼
主分类号 G03F1/14(2006.01)I IPC主分类号 G03F1/14(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I
专利有效期 一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正方法 至一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正方法 法律状态 授权
说明书摘要 本发明涉及65纳米集成电路的制造工艺和版图设计技术领域,公开了一种基于Cell的层次化光学邻近效应校正(OPC)方法。该方法通过将层次化设计的概念引入到全芯片OPC修正过程中,将所有标准单元图形规则化,并在标准单元库构建的过程中对标准单元进行OPC,当全芯片版图得到以后,将其中的标准单元部分用OPC修正过的单元代替,从而不必再做全芯片打平方式的OPC,极大的降低了掩模数据存储量,有利于光刻分辨率增强,从而降低了生产误差,提高了芯片生产效率。

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