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一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法

  • 申请号:CN200910243533.1
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
  • 公开(公开)号:CN101792111A
  • 公开(公开)日:2010.08.04
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法
申请号 CN200910243533.1 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101792111A 公开(授权)日 2010.08.04
申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 罗先刚;王长涛;冯沁;刘凯鹏;刘玲;潘丽;刘尧;邢卉;方亮
主分类号 B81C1/00(2006.01)I IPC主分类号 B81C1/00(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I
专利有效期 一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法 至一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种制备多层浮雕结构复合膜层的方法,其特征在于:在掩模上加工出可供沉积粒子通过的狭缝;在膜料沉积过程中移动掩模狭缝,使沉积区域在基片上移动;通过控制基片各个区域的沉积时间来控制各区域沉积的膜厚,从而对膜层的厚度分布进行调制;在基底的同一区域连续沉积多层不同膜料和厚度分布的膜层,从而得到多层浮雕结构的复合膜层。本发明在微/纳浮雕结构的制备方面具有广阔的应用前景。

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