专利详情

专利名称	电极装置与应用该电极装置的反应气氛控制系统及方法
申请号	CN201010592187.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102098821A	公开（授权）日	2011.06.15
申请（专利权）人	中国科学院高能物理研究所	发明（设计）人	孙宝云;董金泉;赵宇亮
主分类号	H05B7/06(2006.01)I	IPC主分类号	H05B7/06(2006.01)I;C01B31/02(2006.01)I;B01J4/00(2006.01)I
专利有效期	电极装置与应用该电极装置的反应气氛控制系统及方法至电极装置与应用该电极装置的反应气氛控制系统及方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	本发明公开了一种电极装置及具有该电极装置的反应气氛控制系统及控制方法，用于电弧法合成碳纳米材料，所述电极装置包括：电极；壳体，所述壳体的中轴线上设置所述电极，所述壳体一侧具有开口以使所述电极前端与对电极进行接触放电形成放电区；所述壳体与所述电极之间通过绝缘件电性绝缘；气路，在所述电极与所述壳体外壁之间形成有环绕所述电极的气路，所述气路的出口位于所述壳体的出口端，以使所述气路中的气体输送于所述放电区。本发明可以根据需要调节反应气氛，不仅可以节省惰性气体及其它反应气体的用量，而且可以提高产率。