专利详情

专利名称	电光控制二维激光光束扫描阵列
申请号	CN200810037759.1	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101285980	公开（授权）日	2008.10.15
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	职亚楠;闫爱民;刘德安;周煜;孙建锋;刘立人
主分类号	G02F1/29(2006.01)I	IPC主分类号	G02F1/29(2006.01)I
专利有效期	电光控制二维激光光束扫描阵列至电光控制二维激光光束扫描阵列	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种电光控制二维激光光束扫描阵列，其特征是由控制阵列和发射阵列两部分组成，所述的控制阵列是单列的N个电光开关单元构成，所述的发射阵列的结构是由N×M电光开关单元构成的N行M列的矩阵结构，形成N+N×M光束扫描阵列，其中N和M是大于1的正整数，所述的电光开关单元由两个光轴方向不同的第一晶体和第二晶体组合而成：入射光方向沿第一晶体的光轴前进，在第一晶体垂直于光轴的两相对的表面镀金属电极对，以便给该晶体施加横向半波电压；第二晶体为体全息光栅。本发明具有体积小、结构紧凑、功耗低、开关速度快、扫描精度高、扫描范围大、控制简单等优点，并可以通过改变出射面的倾角实现发射角度的改变，具有良好的发展前景。