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一种制作晶体管T型纳米栅的方法

  • 申请号:CN200710064866.9
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN101276751
  • 公开(公开)日:2008.10.01
  • 法律状态:授权
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种制作晶体管T型纳米栅的方法
申请号 CN200710064866.9 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN101276751 公开(授权)日 2008.10.01
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 刘亮;张海英;刘训春
主分类号 H01L21/28(2006.01)I IPC主分类号 H01L21/28(2006.01)I;H01L21/335(2006.01)I
专利有效期 一种制作晶体管T型纳米栅的方法 至一种制作晶体管T型纳米栅的方法 法律状态 授权
说明书摘要 本发明公开了一种制作晶体管T型纳米栅的方法,包括:A、在清洗 干净的外延片上匀一层易于实现去胶和剥离的第一层电子束胶,然后前 烘;B、在第一层电子束胶上匀第二层电子束胶ZEP520A,然后前烘;C、 在第二层电子束胶ZEP520A上匀一层易于实现去胶和剥离的第三层电子 束胶,然后前烘;D、在第三层电子束胶上匀第四层电子束胶UVIII,然 后前烘;E、进行栅帽版电子束曝光,依次显影第四层电子束胶UVIII和 易于实现去胶和剥离的第三层电子束胶;F、进行栅脚版电子束曝光,依 次显影第二层电子束胶ZEP520A和易于实现去胶和剥离的第一层电子束 胶;G、腐蚀栅槽,蒸发栅金属并剥离,形成晶体管T型纳米栅。利用本 发明,容易制作出极小尺寸的栅线条,大大减小了工艺难度。

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