专利详情

专利名称	一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备
申请号	CN200710064861.6	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN101274742	公开（授权）日	2008.10.01
申请（专利权）人	中国科学院微电子研究所	发明（设计）人	石莎莉;陈大鹏;景玉鹏;欧毅;叶甜春
主分类号	B81C5/00(2006.01)I	IPC主分类号	B81C5/00(2006.01)I;H01L21/306(2006.01)I
专利有效期	一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备至一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备	法律状态	授权
说明书摘要	本发明涉及一种抗水流冲击的体硅腐蚀配套设备，尤指一种对MEMS 体硅腐蚀设备——恒温腐蚀设备和恒温加超声腐蚀设备的缺陷加以改进的体硅腐蚀配套设备。本发明中，被固定的腐蚀槽的底部设有与具有开关的导流管的一端连通的开口，导流管的另一端连接到腐蚀液容器，且放置硅片的石英架固定在腐蚀槽的靠近敞口的位置；所述腐蚀槽的内部空间呈几何对称，且腐蚀槽的竖直对称轴通过所述腐蚀槽底部开口的中心；所述石英架上放置有硅片时，硅片的中心对称轴与所述腐蚀槽的竖直对称轴重合。本发明还可以在所述腐蚀槽中在硅片两侧对称地设置有加热器。由此，在硅片两侧可以形成对称的水流流速场和压力场，并可以避免对硅片的不必要的热冲击。