
Mn-Co-Ni-O热敏薄膜的湿法刻蚀方法
- 申请号:CN201210026626.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海技术物理研究所
- 公开(公开)号:CN102592983A
- 公开(公开)日:2012.07.18
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | Mn-Co-Ni-O热敏薄膜的湿法刻蚀方法 | ||
申请号 | CN201210026626.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102592983A | 公开(授权)日 | 2012.07.18 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明(设计)人 | 黄志明;周炜;张雷博;侯云;吴敬;褚君浩 |
主分类号 | H01L21/306(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/306(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
专利有效期 | Mn-Co-Ni-O热敏薄膜的湿法刻蚀方法 至Mn-Co-Ni-O热敏薄膜的湿法刻蚀方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种Mn-Co-Ni-O热敏薄膜的湿法刻蚀方法,主要包括以下步骤:第一步,使用正性光刻胶进行正胶光刻,得到所需图案,将需要的台面图形用光刻胶保护起来;第二步,使用现配的还原性刻蚀液,依据样品片厚度估计所需刻蚀的时间,对样品进行刻蚀,刻蚀完成后用丙酮和酒精清洗,用干燥氮气将样品片吹干。本发明实现了Mn-Co-Ni-O热敏材的湿法刻蚀。本发明还指出,在光刻胶的耐受范围内,适当提高温度以及加入适量的盐酸可以提高刻蚀速率。与干法刻蚀相比,大大提高了效率,热敏电阻边缘整齐,侧蚀比小,图形质量高。 |
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