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一种宽谱广角增透亚波长结构的制备方法

  • 申请号:CN201010520212.4
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 公开(公开)号:CN102033255A
  • 公开(公开)日:2011.04.27
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 一种宽谱广角增透亚波长结构的制备方法
申请号 CN201010520212.4 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102033255A 公开(授权)日 2011.04.27
申请(专利权)人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明(设计)人 张瑞英;董建荣;杨辉
主分类号 G02B5/18(2006.01)I IPC主分类号 G02B5/18(2006.01)I;C23C14/18(2006.01)I;C25D11/04(2006.01)I;C25D11/26(2006.01)I
专利有效期 一种宽谱广角增透亚波长结构的制备方法 至一种宽谱广角增透亚波长结构的制备方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 本发明深入微纳光子技术领域的研究,揭示了一种宽谱广角增透亚波长结构的制备方法,其步骤为先在需要宽谱广角增透的基底材料表面蒸镀一定厚度铝或钛的金属膜;而后放入阳极氧化槽装置中进行完全阳极氧化,形成从基底表面金属氧化物垒层到空气折射率渐变的氧化铝或氧化钛的多孔结构;然后对半成品进行清洗、去垒层、脱水晶化处理后制得与基底结合为一体的宽谱广角增透亚波长结构。本发明制备方法的应用,能有效提高器件宽谱广角透明的光学功能特性;而且本发明制备方法可复制性强,易于大面积低成本的制备推广。

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