
一种改进性能的Y2O3耐侵蚀陶瓷涂层的制备方法
- 申请号:CN201110328241.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN103074562A
- 公开(公开)日:2013.05.01
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种改进性能的Y2O3耐侵蚀陶瓷涂层的制备方法 | ||
申请号 | CN201110328241.5 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN103074562A | 公开(授权)日 | 2013.05.01 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 邵花;王文东;夏洋;李勇滔 |
主分类号 | C23C4/10(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C4/10(2006.01)I |
专利有效期 | 一种改进性能的Y2O3耐侵蚀陶瓷涂层的制备方法 至一种改进性能的Y2O3耐侵蚀陶瓷涂层的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明涉及大气等离子喷涂技术领域,具体涉及一种改进性能的Y2O3耐侵蚀陶瓷涂层的制备方法。所述制备方法,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;步骤(2),对被喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),选择Ar和H2气体为离子气体,通过等离子体喷涂设备在所述基材表面进行等离子喷涂,制备出Y2O3涂层;步骤(4),将喷涂Y2O3涂层的基材置于等离子氧处理设备中,进行等离子氧处理。使用本发明制备的Y2O3涂层为纯正白色,色泽均匀,不再出现杂色斑点,并且具有优异的耐刻蚀性能。 |
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