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可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法

  • 申请号:CN201210411603.1
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所
  • 公开(公开)号:CN103044977A
  • 公开(公开)日:2013.04.17
  • 法律状态:专利实施许可合同备案的生效、变更及注销
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法
申请号 CN201210411603.1 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN103044977A 公开(授权)日 2013.04.17
申请(专利权)人 中国科学院西安光学精密机械研究所 发明(设计)人 郭昭龙;赵卫;赵海新
主分类号 C09D1/00(2006.01)I IPC主分类号 C09D1/00(2006.01)I;C09D5/00(2006.01)I;C03C17/23(2006.01)I;C01B33/141(2006.01)I
专利有效期 可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法 至可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法 法律状态 专利实施许可合同备案的生效、变更及注销
说明书摘要 本发明提供一种可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法,主要解决了现有方法制备的涂料不具备亲水自清洁功能和减反射增透功能,同时,还需要在高温下进行固化的问题。该可形成亲水自清洁减反射膜涂料的制备方法包括以下步骤:1]取氨水、醇和去离子水混合后加热;2]再取有机硅源和醇混合得到混合液;3]将经步骤2制备的反应溶液一次性加入步骤1制备的混合液中反应等处理后即得到成品。该方法所形成的膜层均匀,表面纳米结构规则,粒子表面羟基密度大,因此透光率大幅提升,单面镀膜时透光率提升达到3%以上。同时具有良好的亲水自清洁性。

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