一种改善放电腔流场的气动结构
- 申请号:CN201120403269.6
- 专利类型:实用新型
- 申请(专利权)人:中国科学院光电研究院
- 公开(公开)号:CN202307771U
- 公开(公开)日:2012.07.04
- 法律状态:
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专利详情
专利名称 | 一种改善放电腔流场的气动结构 | ||
申请号 | CN201120403269.6 | 专利类型 | 实用新型 |
公开(公告)号 | CN202307771U | 公开(授权)日 | 2012.07.04 |
申请(专利权)人 | 中国科学院光电研究院 | 发明(设计)人 | 刘斌;丁金滨;陈进新;王宇;周翊;赵江山 |
主分类号 | H01J7/24(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J7/24(2006.01)I;H01J7/26(2006.01)I;F04D29/42(2006.01)I |
专利有效期 | 一种改善放电腔流场的气动结构 至一种改善放电腔流场的气动结构 | 法律状态 | |
说明书摘要 | 一种改善放电腔流场的气动结构,包括:放电腔内的腔体和电极基座上分别设有放电电极;贯流风机置于放电腔内,换热器对应地设置在贯流风机一侧;其中:放电腔内的贯流风机进风口处设有一突起的导流体,所述导流体的顶端指向贯流风机叶轮。与公知技术相比,本实用新型不仅减少了腔内气流的能量损失,提高放电区流速,从而改善系统高压放电的稳定性,同时结构简单,便于加工,安装方便。 |
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