一种微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料及制备方法
- 申请号:CN201010591390.6
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- 公开(公开)号:CN102534479A
- 公开(公开)日:2012.07.04
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料及制备方法 | ||
申请号 | CN201010591390.6 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102534479A | 公开(授权)日 | 2012.07.04 |
申请(专利权)人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明(设计)人 | 宋志棠;夏梦姣;饶峰;刘波;封松林 |
主分类号 | C23C14/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料及制备方法 至一种微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料及制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料及制备方法,该复合相变材料由微晶态的Si和相变材料SbxTe1-x复合而成,其中0.1 x 0.9。可以利用PVD形成非晶Si-SbxTe1-x材料,然后在氢气气氛中退火形成微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料,最后加热脱氢完成该材料的制备。本发明的微晶Si-SbxTe1-x复合相变材料中,微晶Si的存在能有效抑制氧化,阻碍Si与SbxTe1-x的相互扩散,具有更稳定的特性。同时微晶态的Si改变了相变中电流的分布,有利于降低功耗提高寿命,改善相变存储器的操作稳定性。 |
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