专利详情

专利名称	一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统
申请号	CN201120352731.4	专利类型	实用新型
公开（公告）号	CN202307824U	公开（授权）日	2012.07.04
申请（专利权）人	中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心	发明（设计）人	李超波;黄成强;陈波;饶志鹏
主分类号	H01L21/67(2006.01)I	IPC主分类号	H01L21/67(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;B25J9/08(2006.01)I
专利有效期	一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统至一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统	法律状态	授权
说明书摘要	一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统，其安装在预真空腔内，包括运送片盘的机械手，所述机械手固定连接在带动其运动的丝杆螺母上，所述丝杆螺母安装在丝杆上，所述丝杆通过齿轮副与伺服电机连接，所述齿轮副包括与伺服电机转子连接的主齿轮、与丝杆转子连接的副齿轮，所述主齿轮与副齿轮啮合连接。本实用新型的有益效果：传片效率高、可靠性好，且结构简单合理。