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隧穿场效应晶体管及其制造方法

  • 申请号:CN201010620557.7
  • 专利类型:发明专利
  • 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
  • 公开(公开)号:CN102544099A
  • 公开(公开)日:2012.07.04
  • 法律状态:实质审查的生效
  • 出售价格: 面议
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专利详情

专利名称 隧穿场效应晶体管及其制造方法
申请号 CN201010620557.7 专利类型 发明专利
公开(公告)号 CN102544099A 公开(授权)日 2012.07.04
申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 骆志炯;王鹤飞
主分类号 H01L29/78(2006.01)I IPC主分类号 H01L29/78(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I
专利有效期 隧穿场效应晶体管及其制造方法 至隧穿场效应晶体管及其制造方法 法律状态 实质审查的生效
说明书摘要 一种隧穿场效应晶体管,栅堆叠和衬底之间具有交界线,其源区的侧壁经阻挡层接于衬底,且至少靠近栅堆叠的部分所述阻挡层与所述交界线之间的夹角小于90°。还提供了一种隧穿场效应晶体管的制造方法。均利于增加导通电流。

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