隧穿场效应晶体管及其制造方法
- 申请号:CN201010620557.7
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN102544099A
- 公开(公开)日:2012.07.04
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 隧穿场效应晶体管及其制造方法 | ||
申请号 | CN201010620557.7 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102544099A | 公开(授权)日 | 2012.07.04 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 骆志炯;王鹤飞 |
主分类号 | H01L29/78(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L29/78(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I |
专利有效期 | 隧穿场效应晶体管及其制造方法 至隧穿场效应晶体管及其制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 一种隧穿场效应晶体管,栅堆叠和衬底之间具有交界线,其源区的侧壁经阻挡层接于衬底,且至少靠近栅堆叠的部分所述阻挡层与所述交界线之间的夹角小于90°。还提供了一种隧穿场效应晶体管的制造方法。均利于增加导通电流。 |
交易流程
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可交易 - 03 签订合同
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