三维半导体存储器件及其制备方法
- 申请号:CN201010599602.5
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院微电子研究所
- 公开(公开)号:CN102544049A
- 公开(公开)日:2012.07.04
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 三维半导体存储器件及其制备方法 | ||
申请号 | CN201010599602.5 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102544049A | 公开(授权)日 | 2012.07.04 |
申请(专利权)人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明(设计)人 | 霍宗亮;刘明 |
主分类号 | H01L27/24(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L27/24(2006.01)I;H01L21/98(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I |
专利有效期 | 三维半导体存储器件及其制备方法 至三维半导体存储器件及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明公开了一种基于垂直型环栅晶体管的1T1R存储结构的三维半导体存储器件及其制备方法,通过控制环栅晶体管的沟道宽度和沟道长度,可以有效控制开关电流比,从而有利于1T1R存储单元的多态运作,同时垂直晶体管相比水平晶体管具有更小的版图尺寸,从而可以有效缩减版图尺寸,实现超高密度的阵列集成。 |
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