一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法
- 申请号:CN201010585777.0
- 专利类型:发明专利
- 申请(专利权)人:中国科学院沈阳自动化研究所
- 公开(公开)号:CN102538663A
- 公开(公开)日:2012.07.04
- 法律状态:实质审查的生效
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专利详情
专利名称 | 一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法 | ||
申请号 | CN201010585777.0 | 专利类型 | 发明专利 |
公开(公告)号 | CN102538663A | 公开(授权)日 | 2012.07.04 |
申请(专利权)人 | 中国科学院沈阳自动化研究所 | 发明(设计)人 | 朱思俊;郭大忠;邹媛媛;柳连柱;赵明扬;许石哲 |
主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/00(2006.01)I |
专利有效期 | 一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法 至一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 |
说明书摘要 | 本发明属于测量领域,具体地说是一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法,装置包括干涉仪本体、干涉计镜组、偏差检测系统、随动系统、转向元件及目标反射镜,偏差检测系统包括分光元件及光斑位置传感器;方法为干涉仪本体发射的激光依次通过干涉计镜组、分光元件,经转向元件转向后照射到目标反射镜上,目标反射镜反射的光经转向元件转向后照射到分光元件上、分为两路,一路反射回干涉仪本体,另一路照射在光斑位置传感器上;由光斑位置传感器检测出偏移量,再将检测出的偏移量转换成位移信号后传递给伺服电机,由伺服电机驱动转向元件移动,使转向元件准确跟踪目标反射镜。本发明测量精度高,结构简单,便携性好;测量方法简单,可靠性强。 |
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