专利详情

专利名称	随机达曼光栅的制备方法
申请号	CN201210007105.0	专利类型	发明专利
公开（公告）号	CN102565903A	公开（授权）日	2012.07.11
申请（专利权）人	中国科学院上海光学精密机械研究所	发明（设计）人	王少卿;周常河;韦盛斌;贾伟;曹红超;麻健勇
主分类号	G02B5/18(2006.01)I	IPC主分类号	G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I
专利有效期	随机达曼光栅的制备方法至随机达曼光栅的制备方法	法律状态	实质审查的生效
说明书摘要	一种随机达曼光栅的制备方法，包括下列步骤：①在两面平行的透明介质基片的一面涂匀光刻胶，置于随机光场下曝光显影并刻蚀，从而在刻蚀面形成具备一定深度的随机图案，②在所述的透明介质另一面涂匀光刻胶，置于达曼光栅掩模图案下曝光显影和刻蚀，形成具备一定深度的传统达曼光栅结构图案。或先单独加工一个传统的达曼光栅和一个随机相位板，将所述的达曼光栅和所述的随机相位板紧贴组合在一起形成。本发明随机达曼光栅具备衍射光信息量大的优点，相对于传统随机相位板，随机达曼光栅衍射光具备规则点阵光信息，信噪比高，信号处理方便等优点。随机达曼光栅有望在精密测量、机器视觉、航空航天等领域得到广泛的应用。